高对比S黑膜由分子级别的纳米光学组件:全像彩色滤光板结晶体(HCFC)为核心材料,融合纳米技术,材料学、光学、高分子等多学科成果和制备加工技术,以有机材料、无机纳米粉体和精细金属粉体为原料,生产而成。

此产品具备抗氧化、防腐蚀等特点,使用寿命长、可视角度广、不怕强光、不怕水、色彩还原性强、饱和度高、采光率强、双面皆可成像。

幻影成像膜是用显示器45度反射成像,在膜的表面通过真空磁控溅射镀膜工艺镀制纳米级的感光涂层,使膜保持较高的透过率99.99%的同时也具有高的反射率(镜面外观),360度幻影成像、复合幻影成像和立体悬浮式幻影成像。

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