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幻影成像膜是用显示器45度反射成像,在膜的表面通过真空磁控溅射镀膜工艺镀制纳米级的感光涂层,使膜保持较高的透过率99.99%的同时也具有高的反射率(镜面外观),360度幻影成像、复合幻影成像和立体悬浮式幻影成像。
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具有高清晰、耐强光、超轻薄、抗老化等众多优势。由分子级别的纳米光学组件:全像彩色滤光板结晶体(HCFC)为核心材料,融合纳米技术,材料学、光学、高分子等多学科成果和制备加工技术
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